I macina wafer si dividono in due tipi: semiautomatici e completamente automatici. Tra questi, ci sono molti modelli di semiautomatici, inclusi modelli base, modelli a mandrino flottante, modelli a doppio asse e modelli ad asse singolo, ciascuno con funzioni e precisione diverse. Se ne hai bisogno, consulta in dettaglio il nostro servizio clienti per confermare il modello più adatto a te.
Il macinino per wafer prodotto da Tengyu è sul mercato da molti anni. Grazie alla sua ampia applicazione, i prodotti assottigliati hanno un'elevata precisione, una lunga durata e un basso tasso di guasti e hanno ottenuto elogi unanimi da parte dei clienti.
La macchina per l'assottigliamento di wafer al carburo di silicio viene utilizzata principalmente per l'assottigliamento di materiali di substrato come wafer di silicio, arseniuro di gallio, ceramiche di carburo di silicio, ceramiche di zirconio, grafite, tantalato di litio e così via.
Le applicazioni dell'attrezzatura per la lavorazione dei wafer: rettifica di wafer semiconduttori o assottigliamento di materiali avanzati, come: SiC, GaAs, Sapphire, Si, GaN, InP.
Le applicazioni della macinazione ultrasottile:Macinazione ultrasottile o assottigliamento di materiali avanzati, come: SiC, GaAs, Sapphire, Si, GaN, InP.
Le applicazioni della smerigliatrice di wafer a semiconduttore: molatura di wafer a semiconduttore o assottigliamento posteriore di materiali avanzati, come: SiC, GaAs, zaffiro, Si, GaN, InP. scintillatore di particelle di energia, pellicola fluorescente, vetro di proiezione.
La smerigliatrice per wafer per materiale in resina è molto adatta per prodotti con durezza relativamente elevata, spessore ultrasottile e alto grado di precisione nella planarità e nella qualità della superficie. Il design compatto con controlli avanzati e monitoraggio del processo rende questa macchina ideale per l'uso in ricerca e sviluppo o per la produzione di piccoli volumi di componenti avanzati.
Il substrato ceramico Wafer Grinder è molto adatto per prodotti con durezza relativamente elevata, spessore ultrasottile e alto grado di precisione nella planarità e nella qualità della superficie. Il design compatto con controlli avanzati e monitoraggio del processo rende questa macchina ideale per l'uso in ricerca e sviluppo o per la produzione di piccoli volumi di componenti avanzati.